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KEYENCE基恩士推出SI-F80R系列分光干涉式激光位移計

供稿:基恩士(中國)有限公司 2011/10/14 15:44:24
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SI-F80R 系列 分光干涉式晶片厚度計
分光干涉式晶片厚度計 -->
產(chǎn)品索引

 

分光干涉式晶片厚度計

•  即使已貼附背面研磨帶也可測量晶片厚度
•  將圖案的影響降到最小
•  可在生產(chǎn)線上進(jìn)行測量
•  自動映射整個晶片的厚度分布
采用近紅外 SLD,即使已貼附 BG 帶也可測量晶片本身的厚度。即使晶片表面存在由于圖案而產(chǎn)生的顯著差異,也可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的生產(chǎn)線上測量。
 
 

產(chǎn)品特性
 

 

精確的只測量晶片厚度

 

關(guān)于本產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容,請使用右上方的圖標(biāo)下載目錄后確認(rèn)。

 

SI-F80R 系列使用近紅外 SLD,可穿過硅、砷化鎵、碳化硅、磷化銦、非晶硅及其它半導(dǎo)體。即使晶片已封上 BG(背磨)膠帶,也可精確測出晶片厚度。
 
SI-F80R
 
 
精確的只測量晶片厚度
 

同類中最高的規(guī)格

 
同類中最高的規(guī)格

 

幾乎不受晶片圖案的影響

 

關(guān)于本產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容,請使用右上方的圖標(biāo)下載目錄后確認(rèn)。

 

通過減小光點(diǎn)直徑和光點(diǎn)內(nèi)的表面相差,可最大限度的減少晶片表面圖案的變化和測量警報的發(fā)生次數(shù)。
 
圖案化硅晶片厚度分布數(shù)據(jù)
 
 
幾乎不受晶片圖案的影響
 

 

之前的所有問題迎刃而解

 

關(guān)于本產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容,請使用右上方的圖標(biāo)下載目錄后確認(rèn)。

 

[傳統(tǒng)方式]
接觸式測量

使用兩個傳感器一上一下不接觸晶片進(jìn)行測量
接觸式測量 使用兩個傳感器一上一下不接觸晶片進(jìn)行測量
• 測量時可能會損壞晶片。
• 傳感器將測量包括 BG 膠帶在內(nèi)的高度,一旦膠帶厚度發(fā)生變化,整個結(jié)果就會出現(xiàn)誤差。
• 很難在一條直線上對齊兩個傳感器的光軸。
• 傳感器將測量包括 BG 膠帶在內(nèi)的厚度,一旦膠帶厚度發(fā)生變化,整個結(jié)果就會出現(xiàn)誤差。
   

 

 
SI-F80R 系列
 

 

緊靠生產(chǎn)線進(jìn)行簡單精確的測量 在生產(chǎn)線中持續(xù)監(jiān)控
緊靠生產(chǎn)線進(jìn)行簡單精確的測量 在生產(chǎn)線中持續(xù)監(jiān)控
• 只需將傳感器放在距離晶片 80 mm 的位置,即可輕松進(jìn)行測量。
• 不接觸晶片,避免晶片損傷。
• 傳感器可直接只測量晶片厚度,因此測量不受 BG 膠帶的影響。
• 小巧的傳感頭可安裝在距離晶片 80 mm 的位置,因此可在拋光的同時在設(shè)備內(nèi)部持續(xù)監(jiān)控晶片厚度。

相關(guān)產(chǎn)品請下載:

http://785051.com/company/datum/2013091615505600001.htm

 

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